박막 증착을 위한 화학적 방법을 화학 기상 증착(CVD)이라고 합니다.
CVD에서는 기판을 진공 챔버에 넣습니다.
두 개의 화학 전구체가 가열되어 기화됩니다.
이렇게 기화된 전구체가 기판 표면에서 만나면 화학 반응이 일어납니다.
이 반응으로 박막 코팅이 형성됩니다.
CVD는 특정 재료 특성을 가진 고성능 박막을 만드는 데 널리 사용되는 기술입니다.
일반적으로 반도체 제조 및 필름 구성과 두께에 대한 정밀한 제어가 필요한 기타 산업에서 사용됩니다.
박막 증착을 위한 화학적 방법이란 무엇인가요? 알아야 할 5가지 핵심 사항
1. 화학 기상 증착(CVD)
CVD는 박막 증착에 사용되는 화학적 방법입니다.
2. 기판 배치
공정 중에 기판을 진공 챔버에 배치합니다.
3. 가열 및 기화
두 개의 화학 전구체가 가열되어 기화됩니다.
4. 화학 반응
기화된 전구체가 기판 표면에서 만나면 화학 반응이 일어납니다.
5. 박막 형성
이 반응으로 박막 코팅이 형성됩니다.
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