박막 증착을 위한 화학적 방법을 화학 기상 증착(CVD)이라고 합니다. CVD에서는 기판을 진공 챔버에 넣고 두 개의 화학 전구체를 가열하여 기화시킵니다. 이렇게 기화된 전구체가 기판 표면에서 만나면 화학 반응이 일어나 박막 코팅이 형성됩니다. CVD는 특정 재료 특성을 가진 고성능 박막을 만드는 데 널리 사용되는 기술입니다. 일반적으로 반도체 제조 및 필름 구성과 두께에 대한 정밀한 제어가 필요한 기타 산업에서 사용됩니다.
화학 기상 증착(CVD)을 위한 고품질 실험실 장비를 찾고 계십니까? 킨텍만 있으면 됩니다! 신뢰할 수 있고 효율적인 다양한 CVD 시스템을 통해 고객의 박막 증착 요구에 맞는 완벽한 솔루션을 제공할 수 있습니다. 반도체 제조 또는 전자 기기 코팅 공정을 향상시킬 수 있는 기회를 놓치지 마세요. 지금 바로 견적을 요청하고 킨텍과 함께 연구를 한 단계 더 발전시키십시오!