박막 형성은 기판 위에 재료 층을 증착하는 공정입니다.
이 층의 두께는 일반적으로 나노미터에서 수 마이크로미터까지 다양합니다.
이 공정은 가정용 거울, 전자 기기, 태양 전지 생산 등 다양한 응용 분야에서 매우 중요합니다.
박막의 형성에는 몇 가지 주요 단계가 포함되며 다양한 증착 기술을 통해 달성할 수 있습니다.
박막이 형성되는 과정은 무엇인가요? 4가지 주요 단계 설명
1. 증착 종의 생성
이 단계에는 기판과 대상 물질을 준비하는 과정이 포함됩니다.
기판은 박막을 증착할 기본 재료입니다.
표적 물질은 박막을 형성할 물질입니다.
기판과 표적 물질의 선택은 최종 제품의 원하는 특성에 따라 달라집니다.
2. 종의 운송
증착 종은 증착, 스퍼터링, 화학 기상 증착(CVD) 또는 스핀 코팅과 같은 기술을 사용하여 타겟에서 기판으로 이송됩니다.
증착에서는 대상 물질이 증기로 변할 때까지 가열된 다음 기판에 응축됩니다.
스퍼터링에서는 고에너지 플라즈마를 사용하여 대상 물질에서 원자를 방출한 다음 기판으로 이동합니다.
화학 기상 증착은 기체 전구체의 화학 반응을 통해 기판에 물질을 증착합니다.
스핀 코팅은 액체 전구체를 도포한 상태에서 기판을 회전시켜 건조하면서 박막을 형성하는 방식입니다.
3. 성장 및 핵 형성
표적 물질이 기판에 도달하면 핵 형성 및 성장 과정을 거칩니다.
표적 물질의 원자는 기판에서 즉시 반사되거나 표면에서 응축됩니다.
응축 가능성은 활성화 에너지, 표적과 기판 사이의 결합 에너지, 접착 계수 등의 요인에 의해 영향을 받습니다.
응축하는 원자와 충돌하는 원자의 비율을 점착 계수라고 합니다.
더 많은 원자가 응축되면 연속적인 필름을 형성하기 시작하여 원하는 두께에 도달할 때까지 계속 증가합니다.
4. 수정 및 검토
선택한 특정 증착 기술은 두께, 균일성 및 기판에 대한 접착력과 같은 박막의 특성에 큰 영향을 미칠 수 있습니다.
온도, 압력, 가스 구성과 같은 요인을 포함한 증착 중 환경도 박막의 품질에 영향을 미칠 수 있다는 점에 유의해야 합니다.
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