금속의 PVD 공정은 코팅 종의 원자, 이온 또는 분자를 기판 위에 물리적으로 증착하는 과정을 포함합니다. 일반적으로 1~10µm 두께의 박막을 생성합니다. 이 공정은 감압된 대기가 제어된 챔버에서 수행됩니다. 직접 증착 또는 코팅 재료와 반응성 가스 사이에서 화학 반응이 일어나는 반응성 용도에 사용할 수 있습니다.
금속 PVD 공정이란 무엇인가요? 5가지 주요 측면 설명
1. 증착 기법
PVD에는 이온 도금, 이온 주입, 스퍼터링 및 레이저 표면 합금과 같은 방법이 포함됩니다. 각 방법에는 금속과 플라즈마를 생산하기 위한 서로 다른 공정이 포함됩니다.
2. 반응성 가스
질소, 산소 또는 메탄과 같은 활성 가스는 조밀하고 단단한 코팅을 보장하기 위해 플라즈마 타격과 함께 사용되는 경우가 많습니다.
3. 화학 반응 없음
화학 기상 증착과 달리 PVD는 증착 공정 중에 화학 반응이 일어나지 않습니다. 대신 기화된 물질이 기판 위에 응축되어 원하는 층을 형성합니다.
4. PVD 기술에 대한 자세한 설명
이온 도금
이 방법은 플라즈마를 사용하여 박막을 증착합니다. 이 공정은 열역학적 또는 전기기계적 공정을 통해 전구체 물질을 여기시켜 특정 분자를 증기로 방출한 다음 기판 위에 증착하는 과정을 포함합니다.
스퍼터링 증착
또 다른 일반적인 PVD 기술인 스퍼터링은 일반적으로 진공 상태에서 에너지 입자로 표면을 타격하여 대상 물질 원자를 방출하는 방식입니다. 이렇게 방출된 원자는 기판 위에 증착됩니다.
진공 열 증발
이 방법은 증착할 물질이 증발할 때까지 가열한 다음 진공 환경에서 기판에 응축하는 방식입니다.
전자 빔 증착
PVD의 특수한 형태인 이 기술은 전자 빔을 사용하여 재료를 증발점까지 가열한 다음 기판 위에 증착합니다.
5. 안전성 및 사용 편의성
PVD 공정은 화학 물질을 사용하지 않기 때문에 일반적으로 화학 증착 방법에 비해 더 안전하고 취급하기 쉽습니다. PVD에서 금속을 기체로 전환하려면 고온이 필요하지만 기판 자체를 가열할 필요가 없으므로 공정이 더 잘 제어되고 위험성이 적습니다.
미적 및 기능적 이점
PVD 코팅은 미적 및 기능적 이점을 모두 제공합니다. 시간, 열, 희생 금속, 불활성 가스 등의 파라미터를 조정하여 특정 색상과 표면 두께를 생성하도록 공정을 조작할 수 있습니다. 따라서 PVD는 금속 표면의 특성과 외관을 향상시키기 위해 예술과 과학을 결합한 금속 가공의 다목적 기술입니다.
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