스퍼터 코팅은 기판에 얇고 기능적인 코팅을 적용하는 데 사용되는 물리적 기상 증착(PVD) 기술입니다. 이 공정은 일반적으로 진공 챔버에서 아르곤 가스를 사용하여 이온 충격을 가하여 대상 표면에서 재료를 방출하는 방식으로 이루어집니다. 이렇게 방출된 물질은 기판에 코팅을 형성하여 원자 수준에서 강력한 결합을 형성합니다.
스퍼터 코팅 기술 요약:
스퍼터 코팅은 이온 충격을 통해 대상 물질을 표면에서 방출하여 기판에 증착하여 얇고 균일하며 강력한 코팅을 형성하는 PVD 공정입니다.
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자세한 설명:프로세스 시작:
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스퍼터 코팅 공정은 플라즈마를 형성하는 스퍼터링 캐소드를 전기적으로 충전하는 것으로 시작됩니다. 이 플라즈마는 일반적으로 진공 챔버 내에서 아르곤 가스를 사용하여 생성됩니다. 기판에 코팅할 물질인 표적 물질은 음극에 결합되거나 고정됩니다.이온 폭격:
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고전압이 가해져 이온을 대상 표면으로 가속하는 글로우 방전을 생성합니다. 이러한 이온(일반적으로 아르곤)은 타겟에 충격을 가하여 스퍼터링이라는 공정을 통해 물질이 배출되도록 합니다.기판 위에 증착:
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방출된 대상 물질은 기판 쪽으로 이동하는 증기 구름을 형성합니다. 기판에 닿으면 응축되어 코팅층을 형성합니다. 이 공정은 질소 또는 아세틸렌과 같은 반응성 가스를 도입하여 반응성 스퍼터링으로 이어져 더 넓은 범위의 코팅이 가능하도록 향상시킬 수 있습니다.스퍼터 코팅의 특징:
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스퍼터 코팅은 매끄럽고 균일하여 장식 및 기능적 용도에 적합한 것으로 알려져 있습니다. 전자, 자동차, 식품 포장과 같은 산업에서 널리 사용됩니다. 이 공정을 통해 광학 코팅에 필수적인 코팅 두께를 정밀하게 제어할 수 있습니다.장점과 단점:
스퍼터 기술은 RF 또는 MF 전력을 사용하여 비전도성 재료를 코팅할 수 있고, 층 균일성이 우수하며, 물방울 없이 매끄럽게 코팅할 수 있는 등의 장점을 제공합니다. 하지만 다른 방식에 비해 증착 속도가 느리고 플라즈마 밀도가 낮다는 단점이 있습니다.정확성 검토: