나노 입자 생산을 위한 증기 응축 방법은 불활성 가스 대기가 있는 상태에서 기화 소스에서 금속 또는 무기 물질을 기화시키는 것을 포함합니다. 이 과정을 불활성 가스 응축이라고 합니다. 기화된 금속 또는 무기 물질의 원자는 차가운 표면에서 빠르게 응축되어 나노 입자를 형성합니다.
불활성 가스 응축 기술에서는 전구체 증기가 뜨거운 벽으로 둘러싸인 반응기를 통과합니다. 전구체는 기체 상태에서 분해되고 나노 입자가 핵을 형성합니다. 이 나노 입자는 가스 흐름에 의해 운반되어 차가운 손가락에 수집됩니다. 나노 입자의 크기는 입자 체류 시간, 챔버의 온도, 전구체 구성 및 압력과 같은 요인에 의해 결정됩니다.
나노 입자를 생산하는 또 다른 방법은 레이저 어블레이션입니다. 이 방법은 적절한 레이저를 사용하여 증착할 물질을 녹이는 것입니다. 그런 다음 재료가 기화되고 나노 입자가 기판에 증착됩니다.
화학 기상 증착(CVD)은 나노 입자 합성에 일반적으로 사용되는 방법이기도 합니다. CVD에서는 증기 형태의 전구체 물질이 고온의 배기 챔버에서 기판 위에서 반응하거나 분해됩니다. 이 공정은 촉매를 사용하거나 사용하지 않고 수행할 수 있으며 저압 CVD, 대기압 CVD, 고온 벽면 CVD, 저온 벽면 CVD, 플라즈마 강화 CVD, 광 보조 CVD, 레이저 보조 CVD 등 다양한 변형이 있습니다.
화학 기상 증착은 하나 이상의 기체 흡착종이 뜨거운 표면에서 반응하거나 분해되어 안정적인 고체 제품을 형성하는 상향식 접근 방식입니다. 이 방법은 순수한 박막 또는 나노 입자를 생성할 수 있고, 제조 수율이 높으며, 확장이 간편하다는 장점이 있습니다.
전반적으로 나노 입자 생산을 위한 증기 응축 방법은 물질을 기화시킨 후 차가운 표면에서 빠르게 응축하는 방식입니다. 이 방법은 불활성 가스 응축, 레이저 제거 또는 화학 기상 증착 기술을 통해 달성할 수 있습니다. 각 기술에는 생산된 나노 입자의 크기와 특성을 제어하기 위해 조정할 수 있는 고유한 장점과 매개변수가 있습니다.
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