PVD(물리적 기상 증착) 및 CVD(화학 기상 증착) 기술에 사용되는 촉매는 코발트, 철, 니켈 및 그 합금입니다. 이러한 촉매는 일반적으로 CVD 방법을 통한 탄소 나노튜브 생산에 사용됩니다 [10, 11]. CVD에서는 플라즈마 토치 CVD, 핫 필라멘트 화학 기상 증착(HFCVD), 마이크로파 플라즈마 화학 기상 증착(MPCVD)과 같은 다양한 활성화 경로를 사용할 수 있습니다[10]. 이러한 방법은 원하는 용도에 따라 다양한 기판에서 다양한 품질의 다이아몬드 필름을 성장시키는 데 사용할 수 있습니다 [10].
PVD에서는 가스 분자를 사용하여 고체 코팅을 증착하는 것이 아니라 고체 소스 물질을 원자로 폭격하여 기판에 증착하기 때문에 이 기술은 CVD와 다릅니다[29]. 따라서 PVD는 일반적으로 CVD와 같은 방식으로 촉매를 사용하지 않습니다.
요약하면, PVD 및 CVD 방법을 포함한 CVD 기술에 사용되는 촉매는 코발트, 철, 니켈 및 그 합금입니다. 이러한 촉매는 탄소 나노튜브의 성장과 고품질 다이아몬드 필름의 증착에 중요한 역할을 합니다.
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