PVD(물리적 기상 증착) 및 CVD(화학 기상 증착) 기술에서는 특정 촉매가 중요한 역할을 합니다.
PVD 및 CVD 기술에서 촉매에 대한 4가지 핵심 사항
1. 사용되는 일반적인 촉매
이러한 기술에서 일반적으로 사용되는 촉매는 코발트, 철, 니켈 및 그 합금입니다.
2. 탄소 나노튜브 생산에서의 역할
이러한 촉매는 CVD 방법을 통한 탄소 나노튜브 생산에 자주 사용됩니다.
3. 다양한 CVD 활성화 경로
CVD에서는 플라즈마 토치 CVD, 핫 필라멘트 화학 기상 증착(HFCVD), 마이크로파 플라즈마 화학 기상 증착(MPCVD) 등 다양한 활성화 경로를 사용할 수 있습니다.
4. 다이아몬드 필름 성장
이러한 방법은 원하는 용도에 따라 다양한 기판에 다양한 품질의 다이아몬드 필름을 성장시키는 데 사용할 수 있습니다.
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