아르곤은 여러 가지 이유로 스퍼터링 공정에 널리 사용됩니다.
아르곤이 스퍼터링 공정에 선호되는 4가지 주요 이유
1. 높은 스퍼터링 속도
아르곤은 원자량이 높은 희귀 가스입니다.
따라서 대상 물질을 타격하기 위한 훌륭한 이온 공급원이 됩니다.
양전하를 띤 아르곤 이온은 음전하를 띤 타겟에 빠른 속도로 끌어당깁니다.
그 결과 스퍼터링 속도가 빨라져 증착 속도가 빨라집니다.
2. 불활성 특성
아르곤은 화학적으로 불활성입니다.
즉, 대부분의 물질과 반응하지 않습니다.
아르곤의 불활성은 스퍼터링된 입자가 오염되거나 변경되지 않도록 보장합니다.
이는 박막의 원하는 특성을 보존합니다.
3. 저렴한 가격 및 가용성
아르곤은 크립톤 및 크세논과 같은 다른 희귀 가스에 비해 상대적으로 저렴합니다.
널리 사용 가능하며 고순도로 얻을 수 있습니다.
따라서 비용 효율성이 중요한 산업 분야에서 실용적인 선택이 될 수 있습니다.
4. 기타 고려 사항
스퍼터링에 아르곤을 사용하면 다양한 방향으로 공정을 작동할 수 있습니다.
또한 복잡한 형상을 코팅할 수 있습니다.
소스 재료를 녹일 필요가 없으므로 다양한 구성에 맞게 공정을 조정할 수 있습니다.
이는 다목적성을 향상시킵니다.
또한 아르곤은 재료의 산란을 줄이면서 더 조밀한 층을 만들 수 있습니다.
이는 증착된 필름의 전반적인 품질을 향상시킵니다.
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킨텍은 고순도 아르곤이 우수한 스퍼터링 결과를 달성하는 데 중요한 역할을 한다는 것을 잘 알고 있습니다.
당사의 아르곤은 높은 스퍼터링 속도, 불활성 특성 및 비용 효율성을 보장하기 위해 세심하게 공급됩니다.
따라서 박막 증착 요구에 이상적인 선택입니다.
복잡한 형상을 코팅하든 조밀하고 고품질의 층을 목표로 하든, 킨텍의 아르곤은 안정적이고 효율적인 공정을 보장합니다.
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