CVD(화학 기상 증착)는 몇 가지 주요 장점으로 인해 종종 PVD(물리적 기상 증착)보다 우수한 것으로 간주됩니다.
PVD 대비 CVD의 4가지 주요 장점
1. 더 높은 작동 압력
CVD는 PVD보다 높은 압력에서 작동합니다.
따라서 고진공 펌프가 필요하지 않습니다.
독성 가스에 대한 광범위한 가스 관리가 필요하지 않은 시스템의 경우 비용을 절감할 수 있습니다.
2. 비 가시선 증착
CVD의 층류 특성과 결합된 높은 압력은 비 가시선 증착을 가능하게 합니다.
이를 통해 표면이 불규칙하거나 밀집된 배열의 기판에 컨포멀 필름을 증착할 수 있습니다.
3. 고순도 및 고밀도 필름
CVD는 비교적 높은 증착 속도로 고순도 및 고밀도 필름 또는 입자를 생산할 수 있습니다.
이 기능은 균일한 코팅과 고순도가 필요한 애플리케이션에 매우 중요합니다.
또한 CVD는 금속, 세라믹, 반도체 박막을 포함한 다양한 재료를 증착할 수 있어 다목적성이 뛰어납니다.
4. 경제적 이점
CVD는 경제적 이점을 제공하며 고진공 조건의 필요성을 줄여줍니다.
이는 많은 응용 분야에서 CVD의 매력을 높여줍니다.
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