XRF 분석은 물질에 X선을 조사하고 그 결과 나오는 형광 방사선을 측정하여 원소 구성을 결정하는 데 사용되는 비파괴 기술입니다. 이 과정에는 몇 가지 주요 단계가 포함됩니다:
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샘플 준비: 시료의 유형(고체, 분말 또는 액체)에 따라 준비 방법이 다릅니다. 고체 시료의 경우 평평하고 깨끗한 표면이 필요합니다. 분말 시료는 분쇄 및 균질화되는 경우가 많으며, 액체 시료는 정확한 측정을 위해 특별한 취급이 필요합니다. 고체 및 분말 시료의 일반적인 준비 방법 중 하나는 압축 펠릿을 만드는 것으로, 이는 원소의 균일한 분포를 보장하고 정확한 분석을 용이하게 합니다.
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X-선 노출: 샘플은 엑스레이 소스 또는 튜브에서 생성된 엑스레이에 노출됩니다. 이 엑스레이는 샘플의 원자와 상호 작용하여 전자가 다른 궤도로 이동하면서 2차 엑스레이(형광 방사선)를 방출하게 합니다.
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검출 및 분석: 방출된 형광 방사선은 XRF 분광기로 검출됩니다. 각 원소는 고유한 형광 방사 스펙트럼을 생성하므로 시료에 존재하는 원소를 식별하고 정량화할 수 있습니다. 검출기는 이 정보를 처리하여 다양한 피크의 강도에 따라 다양한 원소의 존재와 농도를 보여주는 스펙트럼을 생성합니다.
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결과 해석: XRF 분광기에서 생성된 스펙트럼을 분석하여 시료의 원소 구성을 결정합니다. 이 분석은 원자재와 완제품이 특정 기준을 충족해야 하는 시멘트, 광업, 산업용 광물 등의 산업에서 품질 관리에 매우 중요합니다.
XRF 분석 과정은 비교적 간단하고 일반적으로 복잡한 시료 전처리가 필요하지 않으므로 다양한 산업 및 응용 분야에서 원소 분석에 효율적이고 효과적인 방법입니다.
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