플라즈마 기상 증착법(PECVD)은 주로 반도체 제조, 태양전지, 태양광 발전 등의 산업에서 다양한 소재의 박막을 증착하는 데 사용됩니다. 특히 저온에서 높은 정밀도로 필름을 증착할 수 있어 재료 특성을 정밀하게 제어해야 하는 분야에 적합하다는 평가를 받고 있습니다.
반도체 제조:
반도체 산업에서는 이산화규소 및 질화규소를 포함한 유전체 층을 증착하는 데 PECVD가 광범위하게 사용됩니다. 이러한 재료는 집적 회로에서 여러 전도성 층과 커패시터를 분리하는 데 매우 중요합니다. 400°C 이하의 온도에서 이러한 필름을 증착할 수 있는 PECVD의 기능은 섬세한 부품의 손상을 방지하는 데 유리합니다. 또한 PECVD는 상호 연결 사이의 커패시턴스를 줄이는 데 필수적인 저유전체 재료를 증착하는 데 사용되어 집적 회로의 성능을 향상시킵니다.태양 전지 및 태양광:
PECVD는 태양전지와 태양광 생산에서 중요한 역할을 합니다. 태양전지 패널과 같은 넓은 면적에 균일하게 필름을 증착하는 데 사용되어 광학 층의 굴절률을 정밀하게 조정할 수 있습니다. 이러한 정밀도는 플라즈마 파라미터를 조정하여 달성할 수 있으며, 이를 통해 태양전지의 효율과 성능을 크게 향상시킬 수 있습니다. 이 분야에서 PECVD의 다목적성은 박막 태양 전지에 사용되는 일반적인 재료인 비정질 실리콘 증착에도 적용됩니다.
기타 응용 분야:
전자 및 태양전지 외에도 PECVD는 다양한 분야에서 활용되고 있습니다. 광학 분야에서는 반사 방지 및 스크래치 방지 코팅을 만드는 데 사용됩니다. 기계 공학에서는 마모, 부식, 마찰, 고온에 강한 필름을 증착하는 데 PECVD가 사용됩니다. 또한 생물의학 분야에서는 의료 기기에 생체 적합성 코팅을 증착할 수 있는 PECVD가 사용됩니다.
고유한 기능:
