PVD(물리적 기상 증착)는 금속을 다른 재료의 박막으로 코팅하는 데 사용되는 공정입니다. 이 기술은 원자 수준에서 물질을 이동시켜 응축상에서 기체상으로 이동한 다음 다시 기판의 박막으로 응축상으로 이동하는 것을 포함합니다. PVD 코팅은 일반적으로 코팅하는 소재보다 더 단단하고 내구성이 뛰어나 기본 금속의 성능을 향상시킵니다.
PVD 공정은 세 가지 주요 단계로 나눌 수 있습니다:
- 코팅 재료의 기화: 여기에는 코팅 재료의 증발, 분리 또는 스퍼터링이 포함됩니다. 재료는 기화될 때까지 가열되어 고체에서 기체로 변합니다.
- 원자, 분자 또는 이온의 이동: 기화 후 원자, 분자 또는 이온은 소스에서 기판으로 저압 영역을 가로질러 이동합니다. 이 단계에는 입자 충돌 후 발생하는 모든 반응이 포함됩니다.
- 기판에 증착: 기화된 물질이 기판 표면에 응축되어 얇은 필름을 형성합니다. 이 증착은 고온에서 이루어지며 기판은 손상을 방지하기 위해 저온에서 유지됩니다.
PVD는 높은 경도와 내마모성을 가진 세라믹 또는 복합 코팅과 같이 다른 방법으로는 달성하기 어려운 코팅을 만들 수 있다는 특징이 있습니다. 진공 조건에서 작동하는 저전압 고전류 아크 방전 기술로 환경 오염을 최소화합니다. 이 기술은 부품의 수명을 두 배로 늘리고 비용을 절감하는 동시에 수익성을 높일 수 있는 공구 및 금형 분야에 특히 유용합니다.
요약하면, PVD는 다양한 재료의 표면 특성을 향상시켜 내구성, 경도 및 성능을 개선하는 박막을 증착하는 다목적의 효과적인 방법입니다.
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