PVD TiN 코팅은 일반적으로 400~500°C(750~930°F) 온도에서 적용됩니다.
PVD 공정은 고온 대신 이온 충격을 원동력으로 사용합니다.
코팅할 기판을 진공 챔버에 넣고 온도에 맞게 가열합니다.
티타늄 코팅 재료가 기화되고 N2와 같은 반응성 가스가 도입되어 이온화됩니다.
그런 다음 기화된 티타늄 원자는 이온화된 질소와 반응하여 기판에 증착되어 코팅을 형성하는 TiN 화합물을 형성합니다.
CVD 공정에 비해 PVD 공정은 훨씬 낮은 온도에서 작동합니다.
CVD 처리 온도는 일반적으로 850~1100°C(1550~2000ºF) 사이입니다.
PVD 코팅은 템퍼링 온도가 높은 강재에 적합합니다.
PVD 코팅은 약 3~5μm의 더 얇은 두께와 약 500°C의 더 낮은 처리 온도를 가지고 있습니다.
따라서 PVD 코팅은 더 넓은 범위의 기판과 응용 분야, 특히 고온에 민감한 기본 재료에 적합합니다.
또한 PVD 코팅은 대부분의 소재에서 허용 오차를 가깝게 유지하고 왜곡을 최소화하는 장점이 있습니다.
반면 CVD 코팅은 내열 요구 사항이 더 높으며 일반적으로 높은 처리 온도(800-1000°C)가 필요하기 때문에 초경합금과 같은 경질 합금에 사용됩니다.
전반적으로 PVD 코팅과 CVD TiN 코팅 중 선택은 부품의 최종 사용 온도에 따라 달라집니다.
사용 온도가 높을수록 CVD 코팅 방법이 더 바람직할 수 있는 반면, PVD 코팅은 더 다양한 기판과 응용 분야에 더 적합하고 다재다능합니다.
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