화학 기상 증착(CVD) 반응기는 기판에 박막을 증착하도록 설계된 복잡한 시스템입니다.
8가지 필수 부품 설명
1. 가스 공급 시스템
이 시스템은 반응기 챔버에 전구체를 공급합니다.
2. 리액터 챔버
박막 증착이 일어나는 곳입니다.
3. 기판 로딩 메커니즘
이 시스템은 리액터 챔버 안팎으로 기판을 도입하고 제거합니다.
4. 에너지 소스
화학 반응에 필요한 열 또는 에너지를 제공합니다.
5. 진공 시스템
원치 않는 가스를 제거하여 제어된 환경을 유지합니다.
6. 배기 시스템
휘발성 부산물과 과도한 가스를 제거합니다.
7. 배기 처리 시스템
배기가스 내 유해하거나 독성이 있는 성분을 처리합니다.
8. 공정 제어 장비
여기에는 압력, 온도, 시간 등의 파라미터를 위한 게이지, 제어 및 모니터링 시스템이 포함됩니다.
각 구성 요소는 CVD 반응기의 효율적이고 효과적인 작동에 매우 중요합니다.
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