CVD(화학 기상 증착) 공정은 증기 상에서 화학 반응을 통해 기판 위에 고체 물질을 증착하는 것입니다.
이 기술은 전자 및 광전자 등 다양한 산업에서 박막과 코팅을 증착하는 데 널리 사용됩니다.
CVD 메탈의 공정은 무엇인가요? 5가지 주요 단계 설명
1. 휘발성 전구체 도입
CVD 공정은 하나 이상의 휘발성 전구체를 반응 챔버에 도입하는 것으로 시작됩니다.
이러한 전구체는 일반적으로 원하는 재료를 형성하는 데 필요한 원소를 포함하는 가스 또는 증기입니다.
2. 기판에서의 화학 반응
전구체는 가열된 기판의 표면에서 반응하거나 분해됩니다.
이 반응은 원하는 재료의 박막 또는 코팅의 증착으로 이어집니다.
반응을 촉진하기 위해 기판을 예열할 수 있으며 온도는 보통 900~1400°C 범위입니다.
3. 증착 파라미터 제어
증착된 재료의 특성은 여러 파라미터를 조정하여 제어할 수 있습니다.
여기에는 기판의 종류, 기판 온도, 반응 가스의 구성, 가스의 압력 및 유량 등이 포함됩니다.
4. 다양한 재료의 형성
CVD는 다양한 재료를 생산할 수 있습니다.
여기에는 세라믹 나노 복합 코팅, 유전체, 단결정 실리콘, 고분자 재료 및 금속이 포함됩니다.
또한 TiO2, SiO2, Al2O3, Si3N4, 카본 블랙과 같은 안료 및 나노 구조 분말을 제조하는 데도 사용됩니다.
5. 재료 공학에서의 응용 분야
CVD는 단순한 증착을 넘어 스트레인 엔지니어링에 사용되어 트랜지스터 성능을 향상시킵니다.
또한 반도체 및 기타 첨단 소재 생산에도 사용됩니다.
CVD는 금속과 합금의 결함을 보완하고 코팅 또는 열처리를 통해 내식성과 내마모성을 개선하는 데 사용됩니다.
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