스퍼터링과 증착은 모두 물리적 기상 증착(PVD)의 방법이지만 코팅 필름을 만드는 방식이 다릅니다.
스퍼터링과 증착에 대해 알아야 할 5가지 핵심 사항
1. 스퍼터링: 이온 충돌의 과정
스퍼터링은 에너지가 있는 이온이 표적 물질과 충돌하여 표적 물질의 원자가 방출되거나 스퍼터링되는 과정입니다.
이 방법은 이온 빔 또는 마그네트론 스퍼터링을 사용하여 수행할 수 있습니다.
스퍼터링은 더 나은 필름 품질과 균일성을 제공하여 더 높은 수율로 이어집니다.
또한 스텝 커버리지가 더 우수하여 고르지 않은 표면에서 더 균일한 박막 커버리지를 제공합니다.
스퍼터링은 증착에 비해 박막을 더 천천히 증착하는 경향이 있습니다.
특히 마그네트론 스퍼터링은 자기적으로 제한된 플라즈마에서 양전하를 띤 이온이 음전하를 띤 소스 재료와 충돌하는 플라즈마 기반 코팅 방식입니다.
이 과정은 폐쇄된 자기장에서 일어나기 때문에 전자를 더 잘 가두고 효율을 높입니다.
필름 품질이 우수하고 PVD 방식 중 가장 높은 확장성을 제공합니다.
2. 증발: 가열 과정
반면 증착은 고체 원료를 기화 온도 이상으로 가열하는 방식입니다.
저항성 열 증발 또는 전자빔 증발을 통해 수행할 수 있습니다.
증착은 스퍼터링에 비해 비용 효율적이고 덜 복잡합니다.
증착 속도가 빨라 높은 처리량과 대량 생산이 가능합니다.
열 증착 공정에 사용되는 에너지는 증착되는 원재료의 온도에 따라 달라지므로 고속 원자가 더 적게 발생하고 기판 손상 가능성이 줄어듭니다.
증착은 금속 또는 비금속의 얇은 필름, 특히 용융 온도가 낮은 필름에 적합합니다.
일반적으로 금속, 내화성 금속, 광학 박막 및 기타 응용 분야의 증착에 사용됩니다.
3. 필름 품질 및 균일성
스퍼터링은 더 나은 필름 품질, 균일성 및 스텝 커버리지를 제공합니다.
증착은 필름 품질과 스텝 커버리지가 낮을 수 있습니다.
4. 증착 속도
스퍼터링은 박막을 더 느리게 증착하는 경향이 있습니다.
증착은 더 높은 증착 속도를 제공합니다.
5. 비용 및 복잡성
스퍼터링은 더 느리고 복잡합니다.
증착은 더 비용 효율적이고 덜 복잡합니다.
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